一种透光性电磁屏蔽膜及其制作方法
基本信息
| 申请号 | CN202010539891.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111655020A | 公开（公告）日 | 2020-09-11 |
| 申请公布号 | CN111655020A | 申请公布日 | 2020-09-11 |
| 分类号 | H05K9/00(2006.01)I | 分类 | 其他类目不包含的电技术; |
| 发明人 | 张建民;张奇;周雨;张东宝 | 申请（专利权）人 | 扬州深研新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 225200江苏省扬州市江都区高新技术产业园科技综合体南部创业孵化区（文昌东路115号） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种透光性电磁屏蔽膜及其制作方法，该透光性电磁屏蔽膜包括以下组分：甲基丙烯酸甲酯，丙烯酸丁酯，丙烯酸，丙烯酸羟丙酯，引发剂，非离子型乳化剂，缓冲剂，去除剂，阴离子乳化剂，中和剂，由于本申请独特的组成成分，使得其整体具有良好的加工性，并能得到高透光性和高屏蔽效果的电磁屏蔽膜；同时，由于采用喷涂的方式，整个生产过程成本更低，效率更高。 |
