垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的制造方法
基本信息
| 申请号 | CN200610136948.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN100445417C | 公开（公告）日 | 2008-12-24 |
| 申请公布号 | CN100445417C | 申请公布日 | 2008-12-24 |
| 分类号 | C23C14/14(2006.01);C22C19/07(2006.01);C22C1/02(2006.01);C22F1/10(2006.01) | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 郭蔚;李勇军;李应国 | 申请（专利权）人 | 湖南中精伦金属材料有限公司 |
| 代理机构 | 长沙市融智专利事务所 | 代理人 | 湖南中精伦金属材料有限公司 |
| 地址 | 410100湖南省长沙市长沙经济技术开发区漓湘路98号和祥科技园E栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的制造方法，包括下述步骤，按量取Co、Ta、Zr三种元素原料放入坩埚中，进行真空熔炼并浇铸成铸锭，将所得铸锭进行热等静压，后进行热轧变形；将热轧锭进行机加工制得所需形状的靶材。本发明工艺方法简单，成本低，材料性能好且质量稳定，所生产的钴钽锆合金靶材纯度高、成份均匀、透磁率高，适于工业化生产，可替代现有垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的生产方法。 |
