含硅偶联剂共聚物成膜树脂及其有机防反射涂膜
基本信息
| 申请号 | CN200610039656.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN1847274A | 公开（公告）日 | 2006-10-18 |
| 申请公布号 | CN1847274A | 申请公布日 | 2006-10-18 |
| 分类号 | C08F220/10(2006.01);C09D133/04(2006.01);G03F7/11(2006.01) | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 冉瑞成;沈吉;庄学军 | 申请（专利权）人 | 中恺投资有限公司 |
| 代理机构 | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 苏州华飞微电子材料有限公司;中恺投资有限公司 |
| 地址 | 215011江苏省苏州市苏州新区灵岩街16号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种含硅偶联剂共聚物成膜树脂以及利用该树脂配制而成的用于以KrF激光(248nm)、ArF激光(193nm)或者F2激光(157nm)为曝光光源的微电子光刻工艺中的有机底部防反射涂膜组合物。本发明成膜树脂主要由含硅丙烯酸酯类偶联剂单体1－40份重量和含吸光基团丙烯酸酯类单体20－80份重量，在自由基引发剂存在的条件下，通过在溶剂中进行共聚合反应以及相应的后处理制备而成。这种成膜树脂与稳定剂、流平剂等少量添加剂在溶剂中配制成防反射涂膜胶液。本方案利用含硅丙烯酸酯偶联剂既可以参与具有高吸光性的单体的共聚合形成具有良好的防反射性能的共聚物，也可以在加热情况下进行交联反应的特性，避免了在光刻过程中光刻胶底层与硅片之间的衍射与反射对光刻图形质量所带来的影响，获得了更好的光刻图形。 |
