含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶
基本信息
| 申请号 | CN200510040276.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN1320007C | 公开（公告）日 | 2007-06-06 |
| 申请公布号 | CN1320007C | 申请公布日 | 2007-06-06 |
| 分类号 | C08F220/14(2006.01);C08K5/541(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 沈吉;冉瑞成;庄学军 | 申请（专利权）人 | 中恺投资有限公司 |
| 代理机构 | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 苏州华飞微电子材料有限公司;中恺投资有限公司 |
| 地址 | 215011江苏省苏州市苏州新区灵岩街16号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶，本发明在原来以甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸四种甲基丙烯酸及其酯类共聚单体中引入了含硅的丙烯酸酯类偶联剂，进行共聚制备成一种新的成膜树脂。这种新的成膜树脂由于含硅丙烯酸酯类偶联剂单元的作用，增加了光刻胶与硅片之间的粘结性能。同时，也改善了抗干刻蚀的性能。 |
