一种防污染便于注液的肖特基二极管制造蚀刻装置

基本信息

申请号 CN202210175715.5 申请日 -
公开(公告)号 CN114566449A 公开(公告)日 2022-05-31
申请公布号 CN114566449A 申请公布日 2022-05-31
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L29/872(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 张兴杰;程万坡;卜正林 申请(专利权)人 江苏韦达半导体有限公司
代理机构 北京康达联禾知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 -
地址 225000江苏省扬州市维扬经济开发区科技园路8号8
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属于蚀刻装置领域,尤其是一种防污染便于注液的肖特基二极管制造蚀刻装置,针对现有的蚀刻装置在使用时,液体没有进行完全的收集容易造成污染,也不便于对需要蚀刻的二极管进行注液,会造成液体的浪费问题,现提出如下方案,其包括框体,所述框体上转动连接有盖板,所述框体的内壁上固定安装有过滤网,所述盖板的底部滑动连接有对称设置的滑动架,所述滑动架的数量为两个,两个滑动架相互靠近的一侧固定安装有对称设置的轨道杆,本发明通过在盖板上调节喷枪的位置,就可方便喷头喷射液体对过滤网上的二极管进行蚀刻,调整好外壳的位置后还可自动的对外壳的位置进行定位,大大增加了喷枪在使用时的稳定性。