一种膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法
基本信息
| 申请号 | CN202010097456.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111519171A | 公开（公告）日 | 2020-08-11 |
| 申请公布号 | CN111519171A | 申请公布日 | 2020-08-11 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01)I;C23C16/02(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 吕伟桃;梁宸 | 申请（专利权）人 | 佛山市思博睿科技有限公司 |
| 代理机构 | 佛山市禾才知识产权代理有限公司 | 代理人 | 佛山市思博睿科技有限公司 |
| 地址 | 528051广东省佛山市南海区狮山镇罗村朗沙广东新光源产业基地核心园区内C区7座第五层（1-6轴）厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了本发明提供一种膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法，包括以下步骤：(1)、前处理：将待处理工件放入反应腔，向反应腔内通入C3F6和/或C4F8，在真空条件下以电离的C3F6和/或C4F8对工件表面进行处理；(2)、活化；(3)、汽化：将亲水材料和疏水材料混合均匀得到混合镀膜材料，汽化后的混合镀膜材料进入反应腔；(4)、沉积亲水膜：设定反应腔内的射频功率位第一功率，在真空度下沉积亲水膜，在沉积过程中对真空度由低到高进行调整；(5)、沉积疏水膜：在沉积过程中对真空度由低到高进行调整；(6)、后处理。本发明的方法具有疏水膜沉积速度快、附着牢固、膜层致密、生产周期短的优点。 |
