一种SIH膜制备方法、红外带通多层膜制备方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种SIH膜制备方法、红外带通多层膜制备方法

基本信息

申请号	CN202010045219.9	申请日	-
公开（公告）号	CN111235521A	公开（公告）日	2020-06-05
申请公布号	CN111235521A	申请公布日	2020-06-05
分类号	C23C14/02(2006.01)I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	陆张武;王迎;李恭剑;徐征驰	申请（专利权）人	浙江晶驰光电科技有限公司
代理机构	浙江千克知识产权代理有限公司	代理人	张海兵
地址	318001浙江省台州市椒江区开发大道东段2198号一期联合厂房3楼-A
法律状态	-

摘要

一种SIH膜制备方法、红外带通多层膜制备方法，属于镀膜技术领域。SIH膜制备方法包括：步骤S01，对溅射镀膜机腔体抽真空；步骤S02,将玻璃基片置于镀膜腔室内加热；步骤S03,利用等离子气体Ar,对玻璃基片进行ICP离子预清洗；步骤S04,在靶材附近充入Ar和H2,在直流脉冲模式下用Ar和H2轰击Si靶,在玻璃基片的沉底上形成SIH膜。红外带通多层膜制备方法包括：步骤S10,采用上述方法在玻璃基片上制备SIH膜；步骤S20，在腔体内部充入Ar和O2，用Ar轰击Si靶，生成SiO2膜；步骤S30，重复步骤S10‑S20形成红外带通多层膜。本发明生产成本低，产能高，能生产出N>3.68,k<0.0002特性的SIH膜和低角度效应的红外带通滤光片。