一种近红外透过滤光片及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010507670.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111736252A | 公开（公告）日 | 2022-04-01 |
| 申请公布号 | CN111736252A | 申请公布日 | 2022-04-01 |
| 分类号 | G02B5/28;G02B5/20;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/30;C23C14/35 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 陆张武;吴婧;王迎;李恭剑;徐征驰 | 申请（专利权）人 | 浙江晶驰光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 浙江千克知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张海兵 |
| 地址 | 318001 浙江省台州市椒江区开发大道东段2198号一期联合厂房3楼-A | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种近红外透过滤光片及其制备方法，属于镀膜技术领域。滤光片包括玻璃基底、设于玻璃基底一侧的长波通膜系、以及设于玻璃基底另一侧的AR膜系；长波通膜系包括逐层交替沉积的高折射率膜层和中折射率膜层，以及为低折射率膜层的最外层；AR膜系包括逐层交替沉积的中折射率膜层和低折射率膜层。方法包括：采用磁控溅射方法在玻璃基底一侧沉积上述长波通膜系，并采用电子束蒸发方法在玻璃基底另一侧沉积上述AR膜系。本发明可以满足大角度（0‑52°）光谱特性要求，且在可见光/截止波段具有低反射特性（＜4.5％），可以消除杂反光对光学元件光谱特性的影响。 |
