薄膜制备装置及薄膜生长的观察方法
基本信息
申请号 | CN200810108517.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN100594254C | 公开(公告)日 | 2010-03-17 |
申请公布号 | CN100594254C | 申请公布日 | 2010-03-17 |
分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/52(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 宋长安;彭应全;宋毅;朋兴平;覃同 | 申请(专利权)人 | 天津佰腾生产力促进中心有限公司 |
代理机构 | 兰州振华专利代理有限责任公司 | 代理人 | 兰州大学;天津佰腾生产力促进中心有限公司 |
地址 | 730000甘肃省兰州市天水南路222号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开一种采用物理方法在基底材料上制备薄膜的设备,以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。本发明的装置中镀膜室由镀膜室壳体和位于镀膜室壳体下的底板构成,在真空壳体上设置有充气阀和观察窗,在底板上分别设置有电阻加热蒸发器、辐射式坩锅蒸发器、溅射靶以及干涉光源、摄像头,在固定架上设置有用旋转轴驱动的旋转托盘、样片退火加热器和其下底设置的用于固定制膜样片装置;本发明的方法是在膜生长同时观察膜上形成的干涉现象。 |
