适用于光谱法测量呼气痕量成份的方法和系统

基本信息

申请号 CN202010041059.0 申请日 -
公开(公告)号 CN113189023A 公开(公告)日 2021-07-30
申请公布号 CN113189023A 申请公布日 2021-07-30
分类号 G01N21/31(2006.01)I 分类 测量;测试;
发明人 马永健;朱国亮;杨雷;杜立涛 申请(专利权)人 深圳市先亚生物科技有限公司
代理机构 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 代理人 郭伟刚
地址 518104广东省深圳市宝安区沙井街道后亭茅洲山工业园工业大厦全至科技创新园科创大厦十四层D单元
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种适用于光谱法测量呼气痕量成份的方法和系统,方法包括:按照设置的抽真空处理方式对测量气室进行抽真空处理,使测量气室内的压力达到设置的进样前的压力阈值,所述抽真空处理方式包括对所述测量气室直接抽真空处理和对所述测量气室进行一次或多次清洗后再抽真空处理;按照设置的进样次数进行一次进样或者多次进样,本发明通过抽真空进样方式使测量气室原有气体去除到一个可控限值以下,使测量气室残留气体的影响降低到一个可控范围内,从而克服了呼气样本量少而无法完全置换测量气室原有气体的困难,并克服测量气室需要较长时间清洗的缺点。