一种提高大尺寸抛光片表面洁净度的清洗工艺
基本信息
| 申请号 | CN202210187085.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114639595A | 公开（公告）日 | 2022-06-17 |
| 申请公布号 | CN114639595A | 申请公布日 | 2022-06-17 |
| 分类号 | H01L21/02（2006.01）I;C11D7/08（2006.01）I;C11D7/04（2006.01）I;C11D7/18（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 张宏杰;刘建伟;武卫;刘园;孙晨光;王彦君 | 申请（专利权）人 | 天津中环领先材料技术有限公司 |
| 代理机构 | 天津诺德知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 300384天津市滨海新区华苑产业区（环外）海泰东路12号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种提高大尺寸抛光片表面洁净度的清洗工艺，步骤包括：多次对硅片执行酸洗和碱洗，其中，所有碱洗均在酸洗之间进行，且所有碱洗为连续设置。本发明一种提高大尺寸抛光片表面洁净度的清洗工艺，通过重新设计清洗工艺，并重新调整酸洗及碱洗成份，以彻底将硅片表面的金属离子清洗干净，同时将硅片表面上的机械损伤及其它颗粒杂质也一同去除，以保证硅片表面洁净度可达到65nm颗粒增长量≤60颗，使脏片率降低了0.3％。 |
