一种蒸发源装置
基本信息
| 申请号 | CN202110645989.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113416932A | 公开（公告）日 | 2021-09-21 |
| 申请公布号 | CN113416932A | 申请公布日 | 2021-09-21 |
| 分类号 | C23C14/26（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张耀辉;宗璐 | 申请（专利权）人 | 合肥联顿恪智能科技有限公司 |
| 代理机构 | 泉州企记知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 许寿宁 |
| 地址 | 230601安徽省合肥市经济技术开发区青龙潭路产业园研发楼D1 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种蒸发源装置，包括可加热的容器和对容器进行加热的加热源，所述容器具有一开口，其开口处具有一用于封住开口的顶盖，所述顶盖中部具有一连通容器内部的通道，该通道构成一喷嘴，所述顶盖内具有若干层沿顶盖轴向布置且环绕在通道周侧的反射板。所述通道上部呈上大下小的敞口状。所述反射板具有环绕通道的通孔，所述反射板的通孔的口径从上至下依次减小。本装置喷嘴不易堵塞、使用安全。 |
