一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺
基本信息
| 申请号 | CN202110843361.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113529014A | 公开（公告）日 | 2021-10-22 |
| 申请公布号 | CN113529014A | 申请公布日 | 2021-10-22 |
| 分类号 | C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张耀辉;宗璐 | 申请（专利权）人 | 合肥联顿恪智能科技有限公司 |
| 代理机构 | 泉州企记知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 许寿宁 |
| 地址 | 230601安徽省合肥市经济技术开发区青龙潭路产业园研发楼D1 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺，本掩模版由聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体混合而成。使得掩膜版在保证足够磁性的前提下，做到重量最小，厚度最小，产生的弯曲形变最小，能够实现大尺寸掩膜版的制作，工艺简单，使用方便。 |
