铝钕合金旋转溅射靶材及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010710119.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112048703A | 公开（公告）日 | 2020-12-08 |
| 申请公布号 | CN112048703A | 申请公布日 | 2020-12-08 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张玉玲 | 申请（专利权）人 | 基迈克材料科技（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 基迈克材料科技（苏州）有限公司 |
| 地址 | 215200江苏省苏州市吴江区汾湖经济开发区汾杨路东侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种铝钕合金旋转溅射靶材及其制备方法。铝钕合金旋转溅射靶材包括本体，本体的最外层为氧化层，本体包括溅射端和分别位于溅射端两边的安装端，溅射端与安装端为一体成型。上述铝钕合金旋转溅射靶材中，一方面，溅射端与安装端为一体成型，这样能够避免焊接质量不良影响溅射效果；另一方面，本体的最外层为氧化层，保证了本体具有足够的硬度，从而不易损坏。上述整体使得本发明的铝钕合金旋转溅射靶材有利于应用。 |
