电致变色膜系的制备方法及电致变色器件的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010896429.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112210754A | 公开（公告）日 | 2021-01-12 |
| 申请公布号 | CN112210754A | 申请公布日 | 2021-01-12 |
| 分类号 | C23C14/08;C23C14/18;C23C14/06;C23C14/35;C23C14/34;G02F1/153;G02F1/155 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 周钧;程银兵;庄志杰 | 申请（专利权）人 | 基迈克材料科技（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 基迈克材料科技（苏州）有限公司 |
| 地址 | 215200 江苏省苏州市吴江区汾湖经济开发区汾杨路东侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种电致变色膜系的制备方法及电致变色器件的制备方法。电致变色膜系的制备方法包括如下步骤：采用气相沉积技术在第一透明保护层上形成第一导电薄膜层，第一导电薄膜层的材质为金属氧化物；采用气相沉积技术在第一导电薄膜层上形成离子储存层，离子储存层的材质为锂合金或者锂金属氧化物；采用气相沉积技术在离子储存层上形成离子传导输送层，离子传导输送层的材质为含锂的聚阴离子化合物；采用气相沉积技术在离子传导输送层上形成离子变色层，离子变色层的材质为金属氧化物；采用气相沉积技术在离子变色层上形成第二导电薄膜层，第二导电薄膜层的材质为金属氧化物；以及采用气相沉积技术在第二导电薄膜层上形成第二透明保护层。 |
