一种物理气相沉积镀膜设备的基片架
基本信息
| 申请号 | CN201920559046.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210367893U | 公开（公告）日 | 2020-04-21 |
| 申请公布号 | CN210367893U | 申请公布日 | 2020-04-21 |
| 分类号 | C23C14/50 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王建 | 申请（专利权）人 | 国民薄膜太阳能科技（淄博）有限公司 |
| 代理机构 | 北京志霖恒远知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 郭栋梁 |
| 地址 | 255086 山东省淄博市高新区民祥路1999号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种物理气相沉积镀膜设备的基片架，涉及真空镀膜设备技术领域，所述基片架包括基片架本体和顶针机构，基片架本体呈竖直设置的方形框架结构，所述基片架本体的两侧均装设有至少一个夹具组件，用于固定玻璃板，所述夹具组件上开设有功能孔；顶针机构位于所述基片架本体的一侧，与所述夹具组件一一对应设置，所述顶针机构的输出端与所述功能孔对应设置，用于控制所述夹具组件对所述玻璃板的固定。本实用新型的基片架通过顶针机构插入到功能孔内并在功能孔内的拨动实现对夹具组件的固定与松开的操作，准确率高，磨损小，可以精准稳定的控制夹具组件，保证基片架上下玻璃片的稳定性和准确性。 |
