微机电系统装置的制造方法、微机电系统装置和电子设备
基本信息
申请号 | CN202111315844.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114148987A | 公开(公告)日 | 2022-03-08 |
申请公布号 | CN114148987A | 申请公布日 | 2022-03-08 |
分类号 | B81C1/00(2006.01)I;B81B7/00(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I | 分类 | 微观结构技术〔7〕; |
发明人 | 邹泉波;丁凯文;冷群文;周良;张贺存;李刚;周汪洋 | 申请(专利权)人 | 歌尔微电子股份有限公司 |
代理机构 | 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人 | 马铁良 |
地址 | 266101山东省青岛市崂山区科苑纬一路1号青岛国际创新园二期F楼 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 公开了一种微机电系统装置的制造方法、微机电系统装置和电子设备。微机电系统装置包括薄膜型的微机电系统器件层,以及该制造方法包括:在微机电系统衬底上形成牺牲层;在牺牲层上形成微机电系统器件层;经由临时键合层将载体层临时键合在微机电系统器件层上,其中,载体层是透明的并且是刚性的;通过对牺牲层进行处理以释放微机电系统器件层;通过曝光从所释放的微机电系统器件层上对载体层进行解键合;以及去除临时键合层。 |
