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一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法

基本信息

申请号 CN202010310864.9 申请日 -
公开（公告）号 CN111481684A 公开（公告）日 2020-08-04
申请公布号 CN111481684A 申请公布日 2020-08-04
分类号 A61L2/08;A61L27/36 分类 -
发明人 蒋彩云;李志宏;柏玮;郭雅楠 申请（专利权）人 百澳瑞派（天津）生物科技有限公司
代理机构 天津盛理知识产权代理有限公司 代理人 百澳瑞派（天津）生物科技有限公司
地址 301714 天津市武清区河西务镇商业区10号212室-18（集中办公区）
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，该方法步骤包括：将脱细胞真皮基质置于含辐照保护剂的PBS缓冲液中于2‑8℃超低压渗透法浸泡20‑120min；然后将真皮基质取出后转入新的含辐照保护剂的PBS缓冲液中，真空封口包装，湿态保存；最后进行低温辐照灭菌，辐照剂量为10‑25KGy，辐照保护剂为儿茶素、丹酚酸B、金属硫蛋白、甘露醇、阿魏酸、山竹醇中的一种或任意两种组合。本发明提供一种在辐照过程中能有效保护脱细胞真皮基质组织结构，确保其使用性能的脱细胞真皮基质的辐照保护方法，有效解决真皮基质收缩温度降低、热稳定性变差以及断裂伸长率降低的技术问题。