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一种可连续均匀供料的钼坩埚装置

基本信息

申请号 CN201220051306.6 申请日 -
公开（公告）号 CN202470749U 公开（公告）日 2012-10-03
申请公布号 CN202470749U 申请公布日 2012-10-03
分类号 F27B14/10(2006.01)I 分类 炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉〔4〕;
发明人 王玉伟 申请（专利权）人 青盟投资顾问（北京）有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 100044 北京市海淀区中关村南大街甲56号方圆大厦公寓A座605
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种可连续均匀供料的钼坩埚装置，包括异型钼坩埚和进给钼棒，其特征在于：通过进给钼棒在异型钼坩埚内的匀速运动实现钼坩埚连续均匀供料。