一种LPCVD工艺腔加热系统
基本信息
| 申请号 | CN201110372325.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102400111B | 公开（公告）日 | 2016-06-15 |
| 申请公布号 | CN102400111B | 申请公布日 | 2016-06-15 |
| 分类号 | C23C16/46(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 乔志强 | 申请（专利权）人 | 嘉程永丰科技（北京）有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100107 北京市朝阳区安立路0-A号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种LPCVD工艺腔加热系统，具体地讲是一种适用于薄膜电池对TCO超白浮法平板玻璃加热的LPCVD工艺腔加热系统。其包括控制系统、加热部件、被加热体三部分；其中，被加热体为加热板；加热部件包括四根加热丝，加热丝嵌入到加热板中；控制系统包括四个温控器和四个固态继电器，四个温控器分别对应四根加热丝，每个温控器与对应的固态继电器通过两根控制线连接，固态继电器的输出端与加热丝连接。本发明具有加热板温度易控、加热温度精度高、加热均匀、镀膜均匀、成品率高的特点。 |
