一种单晶碱抛光添加剂、抛光液及抛光方法
基本信息
| 申请号 | CN202110508319.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113322008A | 公开（公告）日 | 2021-08-31 |
| 申请公布号 | CN113322008A | 申请公布日 | 2021-08-31 |
| 分类号 | C09G1/18（2006.01）I;B24B1/00（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 蒋旭东;朱进;蒋良平 | 申请（专利权）人 | 南京卓胜自动化设备有限公司 |
| 代理机构 | 南京苏高专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | 苏虹 |
| 地址 | 210000江苏省南京市雨花台区龙藏大道9号一层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种单晶碱抛光添加剂、抛光液及抛光方法，添加剂按质量百分比计，包括如下组分：有机硅0.1％～10％，光亮剂0.1％～10％，氟碳表面活性剂0.05％～1％，余量为水。采用本发明提供的单晶碱抛光添加剂，应用于单晶抛光工艺，可以得到背面光亮的单晶，同时大幅度增加反射率；该单晶碱抛光添加剂影响抛光平整度，增强反应速度。 |
