多元合金复合薄膜制备设备和制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201710305293.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107130213A | 公开（公告）日 | 2017-09-05 |
| 申请公布号 | CN107130213A | 申请公布日 | 2017-09-05 |
| 分类号 | C23C14/26(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 赵海波;梁红樱;董骐;杜建;鲜广;但秦 | 申请（专利权）人 | 成都真锐科技涂层技术有限公司 |
| 代理机构 | 成都虹桥专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 成都真锐科技涂层技术有限公司;四川大学 |
| 地址 | 610052 四川省成都市成华区东三环路二段龙潭工业园成都真锐科技涂层技术有限公司 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种多元合金复合薄膜制备设备和制备方法，尤其是一种涉及纳米涂层技术领域的多元合金复合薄膜制备设备和制备方法。本发明提供一种可显著提高所镀膜的切削刀具综合性能的多元合金复合薄膜制备设备，包括加热系统、供气系统、冷却系统、真空系统、真空室、载物架、升降机构、坩埚蒸发源、磁控溅射源、阴极电弧源和电气控制系统。本申请的设备可以实现阴极电弧离子镀与磁控溅射的组合工艺，及真空蒸发镀与磁控溅射相结合的二元蒸发源工艺，进行多元合金复合薄膜的制备，准确控制各类薄膜的组织结构，从而得到高的硬度、低的内应力、高的结合力、低的粗糙度、良好的耐磨性等综合性优异的多元薄膜，且在制备过程中具有高的沉积速率。 |
