一种大尺寸、多元Ag基合金溅射靶材的制备方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种大尺寸、多元Ag基合金溅射靶材的制备方法

基本信息

申请号	CN202111343240.8	申请日	-
公开（公告）号	CN114395749A	公开（公告）日	2022-04-26
申请公布号	CN114395749A	申请公布日	2022-04-26
分类号	C23C14/34（2006.01）I;C23C14/14（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	宁来元;郭雅俊;张雪凤;方宏;李帅方	申请（专利权）人	丰联科光电（洛阳）股份有限公司
代理机构	广东众达律师事务所	代理人	张雪华
地址	471000河南省洛阳市自由贸易试验区洛阳片区高新河洛路269号
法律状态	-

摘要

本发明涉及AMOLED高性能金属靶材制备领域，具体涉及一种大尺寸、多元Ag基合金溅射靶材及制备方法；生产的银合金溅射靶材尺寸满足G4.5‑G6 AMOLED产线生产所需的大尺寸一体宽幅靶材；并且通过调节合适的多元组分，改善AMOLED制程中出现的纯Ag膜层的扩散和腐蚀不良；一方面可以避免Ag合金大气熔炼时的严重吸氧，另一方面真空环境下通入一定压力的惰性气体保护可以避免Ag及其合金元素的挥发损失，可以更加容易和精准的控制合金比例；为了提高合金元素的均匀本发明采取独特的二次熔炼的工艺，首次熔炼在达到浇铸温度之上有利于电磁搅拌作用的充分发挥，二次熔炼温度在浇铸温度保温增加合金元素的混合和扩散，从而达到合金元素均匀的合金靶。