一种铌合金溅射靶材及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202110807705.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113584366A | 公开(公告)日 | 2021-11-02 |
申请公布号 | CN113584366A | 申请公布日 | 2021-11-02 |
分类号 | C22C27/02(2006.01)I;C22C14/00(2006.01)I;C22C1/04(2006.01)I;B22F3/04(2006.01)I;B22F3/15(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;B22F3/18(2006.01)I;B22F3/24(2006.01)I;B22F3/093(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I | 分类 | 冶金;黑色或有色金属合金;合金或有色金属的处理; |
发明人 | 方宏;张雪凤;孙虎民 | 申请(专利权)人 | 丰联科光电(洛阳)股份有限公司 |
代理机构 | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) | 代理人 | 宋晨炜 |
地址 | 471000河南省洛阳市中国(河南)自由贸易试验区洛阳片区高新河洛路269号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种铌合金溅射靶材及其制备方法,铌合金溅射靶材中含铌元素40~80份、钛元素20~60份;铌合金溅射靶材的制备方法为:将铌粉、钛粉、活性碳粉在保护气体作用下充分混合均匀得到混合粉末;然后将混合粉末装入胶套内,进行冷等静压成型,得到坯体;之后将坯体装入包套并进行真空除气,对除气后的包套进行热等静压处理,得到烧结坯;将烧结坯在保护气氛下加热,然后热轧、校平、退火,得到铌合金板坯;最后对铌合金板坯进行磨削加工,即得到铌合金溅射靶材。采用该方法生产的铌合金溅射靶材,纯度高,晶粒细小,可以用于制作在TFT‑LCD制程中与铜膜层配套使用的过渡层材料,在耐蚀性、热稳定性等方面与铜膜层具有良好的匹配性,改善TFT‑LCD制程中的不良。 |
