一种铌合金溅射靶材及其制备方法

基本信息

申请号 CN202110807705.4 申请日 -
公开(公告)号 CN113584366A 公开(公告)日 2021-11-02
申请公布号 CN113584366A 申请公布日 2021-11-02
分类号 C22C27/02(2006.01)I;C22C14/00(2006.01)I;C22C1/04(2006.01)I;B22F3/04(2006.01)I;B22F3/15(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;B22F3/18(2006.01)I;B22F3/24(2006.01)I;B22F3/093(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I 分类 冶金;黑色或有色金属合金;合金或有色金属的处理;
发明人 方宏;张雪凤;孙虎民 申请(专利权)人 丰联科光电(洛阳)股份有限公司
代理机构 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 代理人 宋晨炜
地址 471000河南省洛阳市中国(河南)自由贸易试验区洛阳片区高新河洛路269号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种铌合金溅射靶材及其制备方法,铌合金溅射靶材中含铌元素40~80份、钛元素20~60份;铌合金溅射靶材的制备方法为:将铌粉、钛粉、活性碳粉在保护气体作用下充分混合均匀得到混合粉末;然后将混合粉末装入胶套内,进行冷等静压成型,得到坯体;之后将坯体装入包套并进行真空除气,对除气后的包套进行热等静压处理,得到烧结坯;将烧结坯在保护气氛下加热,然后热轧、校平、退火,得到铌合金板坯;最后对铌合金板坯进行磨削加工,即得到铌合金溅射靶材。采用该方法生产的铌合金溅射靶材,纯度高,晶粒细小,可以用于制作在TFT‑LCD制程中与铜膜层配套使用的过渡层材料,在耐蚀性、热稳定性等方面与铜膜层具有良好的匹配性,改善TFT‑LCD制程中的不良。