一种钼合金溅射靶材的制备工艺
基本信息
| 申请号 | CN202111563484.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114293160A | 公开（公告）日 | 2022-04-08 |
| 申请公布号 | CN114293160A | 申请公布日 | 2022-04-08 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I;B22F5/00（2006.01）I;C22C27/04（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张雪凤;李帅方;方宏;陈亚光;宁来元;郭雅俊 | 申请（专利权）人 | 丰联科光电（洛阳）股份有限公司 |
| 代理机构 | 广东众达律师事务所 | 代理人 | 张雪华 |
| 地址 | 471000河南省洛阳市中国（河南）自由贸易试验区洛阳片区高新河洛路269号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于高温难熔金属靶材制备领域，具体涉及一种钼合金溅射靶材的制备工艺，本发明采用粉末冶金方法制备，靶材所用原料包含合计原子百分比0.5％‑‑40％的Ga、Ni、Nd元素组中的至少一种元素和原子比0.5％‑‑40％的Ti作为掺杂金属，余量为Mo和不可避免的杂质；本发明经过原料配比、原料混合、胶套装粉定型、冷等静压作业、热等静压作业、热轧作业和机加工作业，得到最终所需产品尺寸；本发明工艺步骤简单，操作便捷，制备的钼合金溅射靶材耐氧化性、耐湿性、与PR胶的粘合力等各项技术指标优秀，可满足高端电子产品镀膜领域使用需求，且生产成本低，产品尺寸宽泛，便于工业化批量生产。 |
