一种MPCVD设备的冷却结构
基本信息
| 申请号 | CN202120345365.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215251169U | 公开（公告）日 | 2021-12-21 |
| 申请公布号 | CN215251169U | 申请公布日 | 2021-12-21 |
| 分类号 | C23C16/511（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 胡常青;邹益 | 申请（专利权）人 | 上海铂世光半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海邦德专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 余娜 |
| 地址 | 201707上海市青浦区新科路303号1幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种MPCVD设备的冷却结构，包括连接板，连接板表面固定有冷却管，冷却管上端固定有水箱，水箱远离冷却管的一侧开设有注水口，连接板内焊接有防护外壳，防护外壳内转动连接有散热风扇，散热风扇远离防护外壳的一侧固定有驱动电机，驱动电机的下表面固定有支撑板，驱动电机表面固定有固定扣，且固定扣螺纹连接有支撑板表面，支撑板远离驱动电机的一侧固定有冷凝器，且冷凝器两侧开设有管道并延伸进冷却管内，有益效果是；该冷却设备采用了水循环冷却来降温，节约成本的同时也有较好的冷却效果，且该冷却设备内增加了微型转动扇可将MPCVD设备内的热温吸入空气存储箱内，并由风机输送至冷凝器内，使其进行降温在释放。 |
