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一种提升阻抗精度的控制方法

基本信息

申请号	CN202011427896.3	申请日	-
公开（公告）号	CN112654158B	公开（公告）日	2022-05-17
申请公布号	CN112654158B	申请公布日	2022-05-17
分类号	H05K3/00（2006.01）I	分类	其他类目不包含的电技术;
发明人	吴飞;雷红慧;张德金;程卓;宁玉杰;谢奉光	申请（专利权）人	广州广合科技股份有限公司
代理机构	广州市时代知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	-
地址	510730广东省广州市保税区保盈南路22号
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种提升阻抗精度控制方法，包括如下步骤：对残铜率进行预估，得到生产残铜率预估值；基于生产残铜率预估值计算出介质层厚度，进而计算出阻抗和差损；计算出生产残铜率实际值；计算生产残铜率实际值和生产残铜率预估值之间的差值m，比较m和10%的大小，若m小于10%，则满足阻抗精度，若m大于10%，则采用生产残铜率实际值更新生产残铜率预估值重新计算介质层厚度和阻抗，直至满足生产残铜率实际值和生产残铜率预估值之间的差值m小于10%。该方法依靠不同类型PCB单元板残铜率分析实际加工的生产残铜率预估值与生产残铜率实际值比较差异，精确加工过程中做差异化分析及修正设计方式，减少实际过程中差异，从而提升阻抗精度要求。