晶片研磨加工装置

基本信息

申请号 CN202020488870.9 申请日 -
公开(公告)号 CN211805515U 公开(公告)日 2020-10-30
申请公布号 CN211805515U 申请公布日 2020-10-30
分类号 B24B37/11(2012.01)I 分类 -
发明人 山本明;高志坚;韩晓慿 申请(专利权)人 捷姆富(浙江)光电有限公司
代理机构 杭州中利知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 卢海龙
地址 314408浙江省嘉兴市海宁市长安镇(高新区)新潮路东侧、春潮路北侧
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及研磨加工领域,且公开了晶片研磨加工装置,包括工作台,工作台为长方形的工作面板,工作台的上方壁面设置有清洗箱,清洗箱为长方形的箱体,本实用新型中,首先将晶片放在晶片槽上,这时启动电机,电机便可以带动转轴旋转,这时转轴便会带动打磨头旋转,这时便可以握住握块然后压动握块,这时挤块在握块的带动下便会向晶片槽上的晶片移动,当收缩块与压块接触后,压块会被收缩块挤压向清洗箱的内部移动,清洗箱的内部放置有水,这时清洗箱内部的水便会从出水槽中向压块的上方壁面溢出,这时打磨头在对晶片槽上的晶片研磨时,碎屑就会随着水源和打磨头旋转产生的离心力被清除,这样出水槽就达到了自动清理,提高人工效率的效果。