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半自动阻焊曝光机

基本信息

申请号	CN202121776738.9	申请日	-
公开（公告）号	CN215449885U	公开（公告）日	2022-01-07
申请公布号	CN215449885U	申请公布日	2022-01-07
分类号	G03F7/20（2006.01）I;G03F9/00（2006.01）I;H05K3/28（2006.01）I	分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
发明人	张方德	申请（专利权）人	浙江欧视电科技有限公司
代理机构	温州金瓯专利事务所（普通合伙）	代理人	陈晖
地址	325000浙江省温州市温州经济技术开发区温州大道700号主楼一层、三层
法律状态	-

摘要

本实用新型公开了一种半自动阻焊曝光机，其包括机体，所述机体依次设置为对位区域及曝光区域，所述机体上设有两组分层设置的轨道，所述轨道横跨所述对位区域及曝光区域，且两组个轨道上均设有PCB框架，两组PCB框架沿所述轨道交替进入曝光区域，所述对位区域位于PCB框架的上下两侧设有若干用于检测对位结果的CCD视觉检测机构，所述曝光区域内位于PCB框架的上下两侧设有用于PCB正反两面曝光的曝光机构。采用双组具备自动对位功能的PCB框架，在曝光之前自动对位，其省去了以往双面曝光机的抬升机构及对位机构，极大的减小了PCB框架的上下空间，可以实现双层设计，提高曝光效率，同时对位精度高（可达20微米），且曝光时间短（2秒）。