用于真空镀膜装置的样品台

基本信息

申请号 CN201820452446.1 申请日 -
公开(公告)号 CN208201113U 公开(公告)日 2018-12-07
申请公布号 CN208201113U 申请公布日 2018-12-07
分类号 C23C14/50;C23C14/54;C23C14/35 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 金炯;杨林;姜琼 申请(专利权)人 杭州赛威斯真空技术有限公司
代理机构 杭州天欣专利事务所(普通合伙) 代理人 杭州赛威斯真空技术有限公司
地址 310052 浙江省杭州市滨江区江虹南路60号2号楼
法律状态 -

摘要

摘要 本申请涉及一种用于真空镀膜装置的样品台,包括支撑板、安装板、升降机构、挡板机构、样品放置盒、膜厚检测仪、导柱、壳体、旋转机构、电极机构、连接管道,其特征是支撑板上固定有导柱、升降机构,导柱上滑动套装安装板,安装板上固定挡板机构、壳体、膜厚检测仪,升降机构与安装板配合并驱动安装板沿导柱上下升降调整相对高度;膜厚检测仪的探头与固定在样品放置盒下的被加工产品相对高度不变;连接管道转动安装在安装板上并与样品放置盒连接,电极机构的阳极设置在壳体上,电极机构阴极设置在被加工产品上,壳体上安装有旋转机构,旋转机构用来驱动连接管道转动并带动样品放置盒转动。本申请结构简洁,使用方便,功能多,效果好。