一种对聚酰亚胺衬底的两面进行镀制的溅射装置
基本信息
| 申请号 | CN201720290190.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN206599603U | 公开（公告）日 | 2017-10-31 |
| 申请公布号 | CN206599603U | 申请公布日 | 2017-10-31 |
| 分类号 | C23C14/20(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 董凤林;崔海波;李剑辉;张坚 | 申请（专利权）人 | 成都南光机器有限公司 |
| 代理机构 | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 | 代理人 | 成都南光机器有限公司 |
| 地址 | 610000 四川省成都市龙泉驿区星光西路115号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型记载了一种对聚酰亚胺衬底的两面进行镀制的溅射装置，包括真空室，真空室内设置有对聚酰亚胺衬底进行输送的传送设备，传送设备的一侧设置有对聚酰亚胺衬底的背面进行溅射的溅射机构A，传送设备的另一侧设置有对聚酰亚胺衬底正面进行溅射的溅射机构B。本实用新型新增了对聚酰亚胺衬底背面进行溅射的溅射机构A，对聚酰亚胺衬底的背面事先预镀一层耐磨材料，提前通过背面溅射镀膜方式加入背面预应力，通过后续的溅射机构B对聚酰亚胺衬底的正面进行磁控溅射镀膜后来实现应力的平衡，避免出现应力释放造成薄膜损坏的现象发生。于此同时，也将聚酰亚胺衬底应力变形减少到了最小，提高了成膜的平整度。 |
