一种适用于供酸系统的高洁净湿法设备

基本信息

申请号 CN202011637072.9 申请日 -
公开(公告)号 CN112735989A 公开(公告)日 2021-04-30
申请公布号 CN112735989A 申请公布日 2021-04-30
分类号 H01L21/67 分类 基本电气元件;
发明人 邓信甫;刘大威;陈丁堃;吴海华 申请(专利权)人 江苏启微半导体设备有限公司
代理机构 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 代理人 杜冰云;周涛
地址 200241 上海市闵行区紫海路170号1幢3层03室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种适用于供酸系统的高洁净湿法设备,包括工作舱、混酸装置和晶圆清洗设备;所述工作舱的内部通过透气隔板分隔成多个舱室,混酸装置和晶圆清洗设备交替安装在工作舱的各舱室内;工作舱上安装有风机过滤单元;晶圆清洗设备包括设备外壳、设置在设备外壳内的复合腔体结构、以及设置在复合腔体结构内的晶圆支撑结构;设备外壳上安装有与复合腔体结构相连通的用以抽出复合腔体结构内废气的抽气装置和至少一个用于向晶圆表面喷射清洗液或气体的喷淋管。本发明的洁净能力大大提升,提高了清洗效率和清洗效果,有效地保证了晶圆品质。