一种高洁净晶圆湿法清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN202011635599.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112845300A | 公开（公告）日 | 2021-05-28 |
| 申请公布号 | CN112845300A | 申请公布日 | 2021-05-28 |
| 分类号 | B08B3/12(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 邓信甫;陈丁堃;刘大威;吴海华 | 申请（专利权）人 | 江苏启微半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | 上海智力专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | 杜冰云;周涛 |
| 地址 | 200241上海市闵行区紫海路170号1幢3层03室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种高洁净晶圆湿法清洗装置，包括工作舱、安装在工作舱内的晶圆清洗设备；所述工作舱上安装有用以向晶圆清洗设备吹送纯净气体的风机过滤单元；所述晶圆清洗设备包括设备外壳、设置在设备外壳内的复合腔体结构、以及设置在复合腔体结构内的晶圆支撑结构；设备外壳上安装有抽气装置和至少一种喷淋管；晶圆支撑结构用于使晶圆悬浮在其上方并向晶圆背面喷射清洗液；复合腔体结构内部设置有多层腔室大小可调的引流腔，复合腔体结构用以使不同工作模式下晶圆表面和背面的清洗液从其相应引流腔流至设备外部。本发明的洁净能力大大提升，提高了清洗效率和清洗效果，有效地保证了晶圆品质。 |
