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一种有效防止晶圆交叉污染的气流控制模组

基本信息

申请号 CN202011632744.7 申请日 -
公开（公告）号 CN112786493A 公开（公告）日 2021-05-11
申请公布号 CN112786493A 申请公布日 2021-05-11
分类号 H01L21/67 分类 基本电气元件;
发明人 邓信甫;国天增;刘大威;陈丁堃 申请（专利权）人 江苏启微半导体设备有限公司
代理机构 上海智力专利商标事务所（普通合伙） 代理人 杜冰云;周涛
地址 200241 上海市闵行区紫海路170号1幢3层03室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种有效防止晶圆交叉污染的气流控制模组，包括设备外壳、设置在设备外壳内的复合腔体结构、以及设置在复合腔体结构内的晶圆支撑结构；所述设备外壳上安装有抽气装置和至少一个喷淋管；所述晶圆支撑结构用于使晶圆悬浮在其上方并向晶圆背面喷射清洗液；所述复合腔体结构内部设置有多层腔室大小可调的引流腔，复合腔体结构用以根据化学清洗液的类型使晶圆表面和背面的清洗液从其对应引流腔流至设备外部。本发明的洁净能力大大提升，提高了清洗效率和清洗效果，有效地保证了晶圆品质。