一种用于真空磁控溅射的铝银合金靶材及其制备方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种用于真空磁控溅射的铝银合金靶材及其制备方法

基本信息

申请号	CN201910398226.4	申请日	-
公开（公告）号	CN109989045B	公开（公告）日	2021-07-30
申请公布号	CN109989045B	申请公布日	2021-07-30
分类号	C23C14/35（2006.01）I;C22C21/00（2006.01）I;C22C1/03（2006.01）I;C22C1/06（2006.01）I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	赵宏达;刘革;常占河;柳泉;于志凯	申请（专利权）人	沈阳东创贵金属材料有限公司
代理机构	北京化育知识产权代理有限公司	代理人	尹均利
地址	110015辽宁省沈阳市沈河区文化东路89号
法律状态	-

摘要

本发明的一种用于真空磁控溅射的铝银合金靶材及其制备方法。靶材包括组分及质量百分含量为39.0～70.0wt.％Al，29.0～60wt.％Ag，0.3～0.5wt.Zn％，0.1～0.3wt.％Mn，0.1～0.2wt.％Si，0.05～0.1wt.％Sb，0.05～0.1wt.％Cr，0.01‑0.02wt.％Y。制法为：将铝进行加热熔化后，先后依次加入金属银，锰、硅、锑、铬、铝钇中间合金和锌，熔化后加入造渣剂进行除渣，浇入模具形成铸锭后，控制相应参数进行热锻、轧制、裁剪与表面处理，获得铝银合金靶材。采用该方法制得靶材经镀膜后，可获得色泽均匀、耐蚀性良好、亮度较高的膜层，具有广阔的市场应用前景。