一种抛光转台及其多工艺抛光加工平台
基本信息
| 申请号 | CN202220499433.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216859324U | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN216859324U | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | B24B29/02（2006.01）I;B24B27/00（2006.01）I;B24B57/02（2006.01）I;B24B57/00（2006.01）I;B24B41/00（2006.01）I;B24B41/06（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 许聪聪;冯铭;廖煜晖;张泽林;张祥雷;周宏明 | 申请（专利权）人 | 温州大学 |
| 代理机构 | 北京盛凡佳华专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 325035浙江省温州市瓯海区茶山镇温州高教园区温州大学 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种抛光转台及其多工艺抛光加工平台，属于抛光设备技术领域，包括顶面设有抛光座的转盘，转盘中部设有通孔，转盘底面设有与通孔连通的中空转轴，转盘顶面设置有罩设在抛光座上方的收集漏斗，抛光座上设有端头穿过收集漏斗表面的连接轴，连接轴的端头上设有工位平台，收集漏斗的漏液管通过通孔伸入中空转轴内部；还提供了一种多工艺抛光加工平台，包括固定基座，转盘转动连接在固定基座上，固定基座上周向布设有上料区和若干个抛光区，若干个抛光区连续设置且均对转至此处的工位平台上的工件进行抛光；收集漏斗将抛光座罩设在下面，能够及时有效的将喷射出的抛光液回收，另一方面能够对抛光座形成保护，避免抛光液溅入造成抛光座内部线路短路。 |
