蚀刻液及其制备方法和应用
基本信息
| 申请号 | CN202111276160.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113957441A | 公开（公告）日 | 2022-01-21 |
| 申请公布号 | CN113957441A | 申请公布日 | 2022-01-21 |
| 分类号 | C23F1/26（2006.01）I;H01L21/3213（2006.01）I;H01L21/768（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 周志强;袁明军;李治文;杜小林;胡秋雨;刘彬云 | 申请（专利权）人 | 广东光华科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 黎金娣 |
| 地址 | 511400广东省广州市番禺区石楼镇创启路63号创启7号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种蚀刻液及其制备方法应用，该蚀刻液包括水、氟盐、铝缓蚀剂和氧化剂；所述铝缓蚀剂的结构中含有氮原子和硼羟基，或所述铝缓蚀剂的结构中含有氮原子和硼酸频哪醇酯基。该蚀刻液能快速蚀刻腐蚀钛而对铝的腐蚀作用较小，蚀刻系数大，能够满足目前半导体晶圆封装工艺制作精细线路的制程要求，且安全可靠，对环境污染小，具有广阔的应用前景。 |
