一种针对大颗粒的清洗系统
基本信息
| 申请号 | CN202120227324.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214718972U | 公开（公告）日 | 2021-11-16 |
| 申请公布号 | CN214718972U | 申请公布日 | 2021-11-16 |
| 分类号 | B08B5/02（2006.01）I;B08B5/04（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 李海伟;曹欣 | 申请（专利权）人 | 北京京城清达电子设备有限公司 |
| 代理机构 | 北京挺立专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 蔡宗慧 |
| 地址 | 100176北京市大兴区北京经济技术开发区经海二路5号2号楼一层东侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种针对大颗粒的清洗系统，包括负压腔体组合单元、调节支撑单元、风刀单元、风箱单元，所述负压腔体组合单元包括上盖板、下盖板、侧挡板、弯管、调节结构，所述上盖板安装在下盖板上，所述侧挡板安装在上盖板侧面，所述弯管及调节结构安装在上盖板上表面，所述调节结构包括底板、立板、顶板、调整件，所述底板安装于盖板上，所述立板安装于底板上，所述顶板安装于立板上，所述调整件安装于顶板上，所述调节支撑单元包括调整底板、支撑立板、上支撑板，所述上支撑板安装在支撑立板上，所述支撑立板安装在调整底板上，本实用新型在产品经过清洗系统下方时完成对产品上表面的清洗。 |
