一种高精度全自动双面曝光机
基本信息
| 申请号 | CN201921401480.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210864317U | 公开（公告）日 | 2020-06-26 |
| 申请公布号 | CN210864317U | 申请公布日 | 2020-06-26 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 李明之;朱伟杰;李壮 | 申请（专利权）人 | 爱司凯科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 杭州君度专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 爱司凯科技股份有限公司 |
| 地址 | 510000广东省广州市中新广州知识城九佛建设新街18号自编112房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种高精度全自动双面曝光机，其包括机架，用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统；上框系统，位于机架内部，包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板；对准系统，包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板，对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版的精确对准，对准系统设于上框系统的下方；进出料系统，包括进料系统和出料系统，用于对产品的自动进料和自动出料；机械手系统；视觉系统；曝光模块；恒温恒湿模块；控制系统。本实用新型通过对准系统和视觉系统实现双面曝光机上下掩膜版的对准，能够防止曝光时图案错位，提高曝光质量，通过对准单元能够完成多方向和角度的调整，对准精度高。 |
