用于压印纳米孔薄膜的装置
基本信息
| 申请号 | CN202022467555.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213732910U | 公开（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申请公布号 | CN213732910U | 申请公布日 | 2021-07-20 |
| 分类号 | B29C35/02（2006.01）I;B29C35/10（2006.01）I;B26F1/00（2006.01）I;B29L7/00（2006.01）N | 分类 | 塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工; |
| 发明人 | 周向前;伊沃·朗格诺 | 申请（专利权）人 | 滤微科技（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张丰豪 |
| 地址 | 201210上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公开涉及一种用于压印纳米孔薄膜的装置。所述装置包括第一压印部件和第二压印部件，第一压印部件和第二压印部件中的至少一者上设置有以预定阵列布置的、呈突起状的多个第一压印元件，当第一压印部件和第二压印部件彼此挤压接触时，多个第一压印元件能够在设置于第一压印部件和第二压印部件之间的薄膜上压印出以预定阵列布置的、孔径大小受控的纳米孔，其中，多个第一压印元件具有相同的尺寸和构造。该装置能够压印出具有以预定阵列布置的、贯穿所述膜体的、孔径基本相同的多个纳米孔的薄膜，该薄膜具有期望的通透度和低流体阻力，从而具有广泛的应用。 |
