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一种延长抛光布使用寿命的处理方法

基本信息

申请号	CN201811529111.6	申请日	-
公开（公告）号	CN111318964B	公开（公告）日	2021-06-22
申请公布号	CN111318964B	申请公布日	2021-06-22
分类号	B24B53/017	分类	磨削；抛光;
发明人	林霖;史训达;李彦君;刘云霞;陈克强;杨少昆;周莹莹;李奇	申请（专利权）人	有研半导体硅材料股份公司
代理机构	北京北新智诚知识产权代理有限公司	代理人	刘秀青
地址	101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种延长抛光布使用寿命的处理方法，包括以下步骤：(1)刷盘刷布：将刷盘放置在贴好抛光布的抛光机盘面上，用抛光机的压力头压住刷盘，刷盘与抛光机大盘旋转方向相同；(2)高压水冲洗：用高压水冲洗抛光布表面，用高压水把整张抛光布冲洗一遍；(3)修整环研磨：将修整环放置在抛光布上，用抛光机的压力头压住修整环，修整环与抛光机大盘旋转方向相同，修整环研磨抛光布的时间为10s～5min；然后使修整环与抛光机大盘旋转方向相反，压力范围、转速范围和超纯水流量范围都不变，继续研磨抛光布10s～5min。本发明的方法对抛光布使用寿命的延长效果非常显著，可有效延长抛光布的使用寿命，且始终不会影响硅衬底抛光片的几何形貌水平。