一种具有均匀温度场的二维材料气相沉积装置
基本信息
| 申请号 | CN202220215681.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216864302U | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN216864302U | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | C23C14/26（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I;C23C16/30（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 段曦东;李佳;宋蓉 | 申请（专利权）人 | 湖南大学 |
| 代理机构 | 长沙市融智专利事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 410082湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于气相沉积设备领域，具体涉及一种具有均匀温度场的二维材料气相沉积装置，包括反应管、以及包裹反应管并对反应管腔室进行控温的炉膛；炉膛控温的相应反应管腔室为温控区，所述的温控区分为气流上游的挥发区以及位于气流下游的沉积区，其中，对沉积区控温的对应炉膛内设置有螺距渐变的螺旋加热丝以及多个温度探头。本实用新型中，通过所述结构的加热丝B以及温度探头联合创新，能够利于改善温度的均匀性，改善二维材料的沉积效果。 |
