一种具有均匀气氛场的二维材料气相沉积反应室及反应装置
基本信息
| 申请号 | CN202220217480.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216864379U | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN216864379U | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | C30B25/08（2006.01）I;C30B25/16（2006.01）I;C30B25/14（2006.01）I;C30B23/02（2006.01）I;C30B29/46（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 段曦东;宋蓉;李佳 | 申请（专利权）人 | 湖南大学 |
| 代理机构 | 长沙市融智专利事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 410082湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于气相沉积设备领域，具体涉及一种具有均匀气氛场的二维材料气相沉积反应室以及反应装置，其中气相沉积反应室，包括反应管以及用于密封反应管两端的密封装置A和密封装置B；其中密封装置A上带有向反应管供气的进气管；密封装置B设置有输出反应管中气体的排气管；所述的反应管中设置有温控区以及将温控区分割成原料挥发区和沉积区的多孔喷淋头；所述的多孔喷淋头设置有若干贯穿原料挥发区和沉积区的通孔；所述的原料挥发区为位于密封装置A侧的温控区，所述的沉积区为位于密封装置B侧的温控区；所述的挥发区设置有搅拌装置，沉积区设置有基底承托装置；所述的进气管包括载气管和原料控气管。本实用新型结构能够改善气氛稳定，改善材料的制备效果。 |
