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一种基于真空溅射腔室的贵金属回收工艺

基本信息

申请号 CN202011514847.3 申请日 -
公开（公告）号 CN112680749A 公开（公告）日 2021-04-20
申请公布号 CN112680749A 申请公布日 2021-04-20
分类号 C25C1/20;C23C14/35;C23C14/56 分类 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕;
发明人 陈敏;周鑫;郭丽萍 申请（专利权）人 江苏时代华宜电子科技有限公司
代理机构 无锡市汇诚永信专利代理事务所（普通合伙） 代理人 朱晓林
地址 214000 江苏省无锡市环科园岳东路
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属于钼片技术领域，具体涉及一种基于真空溅射腔室的贵金属回收工艺，包括步骤1，将防着板全部浸入硝酸溶液中；步骤2，将防着板浸入电解溶液中；步骤3，将防着板浸入氢氟酸溶液中；步骤4，将防着板放入喷砂机中喷砂处理,完成防着板处理；步骤5，将步骤1和2中的溶液用过滤纱布过滤出沉淀或固体状钌；步骤6，将滤出的沉淀或固体钌再次浸入硝酸溶液中；步骤7，将步骤6中的溶液再次使用过滤纱布过滤,然后烘干即可得到金属钌。本发明不仅使得镀膜腔室处于干净清洁的状态,杜绝腔室被污染镀层被污染的可能性,同时可回收贵金属钌,提高效益减少浪费,减少对环境的污染。