晶片清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN202023289170.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214043611U | 公开（公告）日 | 2021-08-24 |
| 申请公布号 | CN214043611U | 申请公布日 | 2021-08-24 |
| 分类号 | H01L21/67（2006.01）I;H01L21/687（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 郭炳熙;周铁军;陈勇;喻胜举;张建锋;米艳娇 | 申请（专利权）人 | 广东先导先进材料股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京五洲洋和知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张向琨 |
| 地址 | 511517广东省清远市高新区百嘉工业园27-9号B区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公开提供一种晶片清洗装置，晶片清洗装置包括：清洗盘，其上表面设置有限位柱，用于固定晶片；喷淋装置，分别设置于清洗盘的上方和下方；清洗盘为圆盘结构，清洗盘包括上表面和上表面，上表面外圆的直径与下表面外圆的直径相等，上表面内圆的直径小于下表面内圆的直径。清洗盘上表面内圆的直径小于下表面内圆的直径，使得清洗盘的内侧面为有角度的斜面，在旋转过程中，由于离心力的作用下便于内侧面积水的的甩出，能够及时排除残留的液体，避免清洗过程中对晶片的二次污染。 |
