硅片金属杂质检测样品保护装置及硅片金属杂质检测方法
基本信息
| 申请号 | CN202010258528.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113495095A | 公开（公告）日 | 2021-10-12 |
| 申请公布号 | CN113495095A | 申请公布日 | 2021-10-12 |
| 分类号 | G01N27/626（2021.01）I;G01N35/10（2006.01）I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 陈宇驰;张俊宝;陈猛 | 申请（专利权）人 | 上海超硅半导体股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 400714重庆市北碚区两江新区云汉大道5号附188号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种硅片金属杂质检测样品保护装置及硅片金属杂质检测方法，通过本发明公开的方案，可以将金属杂质检测样品放置在保护装置容纳腔中的自动进样器上，由于洁净气流循环系统可以为该保护装置内部输入洁净气流，并采用了一定风速的排风，所以使得自动进样器附近空间不受周围的大气波动影响，且该保护装置将金属杂质检测样品与外部污染源隔离，提升了检测的稳定性和准确性。 |
