一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统
基本信息
| 申请号 | CN201820843084.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208532468U | 公开（公告）日 | 2019-02-22 |
| 申请公布号 | CN208532468U | 申请公布日 | 2019-02-22 |
| 分类号 | C02F9/04 | 分类 | 水、废水、污水或污泥的处理; |
| 发明人 | 杨志宏;贾伯林;陆亚军;朱家伟;刘跃辉;王伟;施东海;顾宇盟;邢岩 | 申请（专利权）人 | 太平洋水处理工程有限公司 |
| 代理机构 | 北京一格知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 太平洋水处理工程有限公司 |
| 地址 | 226000 江苏省南通市工农路29号天虹大厦4楼B座 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，包括一反应组件，所述反应组件包括一反应池，在反应池内安装有搅拌浆，所述反应池的侧端具有一配水口；一沉淀组件，所述沉淀组件包括一设置在反应池侧端的沉淀池，在沉淀池内安装有一刮泥机；一配水组件，所述配水组件包括一设置在反应组件与沉淀组件之间的配水渠，在配水渠内安装有匀质配水器，该匀质配水器位于配水口的出水口处，所述匀质配水器由数列配水管道组共同组成，每列配水管道组由若干并列分布的配水管道共同构成，且两列配水管道组中的配水管道错开分布。本实用新型的优点在于：布水均匀，提高了磁介质沉淀池底部沉淀絮体的分布均匀度，降低了刮泥机局部运行负荷过高的风险。 |
