一种薄层低缺陷微纳米级石墨烯及其制备方法

基本信息

申请号 CN202010837567.X 申请日 -
公开(公告)号 CN114074937A 公开(公告)日 2022-02-22
申请公布号 CN114074937A 申请公布日 2022-02-22
分类号 C01B32/184(2017.01)I;C01B32/19(2017.01)I;C01B32/198(2017.01)I 分类 无机化学;
发明人 吴炳辉;杨亚东;赵兴涛 申请(专利权)人 山东海科创新研究院有限公司
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 刘乐
地址 257067山东省东营市东营区黄河路38号大学科技园生态谷38号楼15层
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种微纳米级石墨烯,所述石墨烯的片层边缘为氧化石墨烯;所述石墨烯的片层除边缘位置以外的其他部分为石墨烯。本发明得到了一种具体特定结构的微纳米级石墨烯,该石墨烯具有微米级别的大片径和纳米级别的薄度,在片层的边缘具有氧化石墨烯的结构和特性。本发明提供的微纳米级石墨烯,具有片层小于5层的石墨烯结构,而且表面官能团及缺陷度较低,石墨烯品质较高,是一种薄层低缺陷石墨烯。本发明提供的制备方法通过机械剥离+弱氧化+化学浅插技术进行制备,方法简单,成本低,更加适于工业化推广及应用。