一种ZnO量子点掺杂的SiO2下转换减反射膜及其制备方法

基本信息

申请号 CN202011189254.4 申请日 -
公开(公告)号 CN112768533A 公开(公告)日 2021-05-07
申请公布号 CN112768533A 申请公布日 2021-05-07
分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0288(2006.01)I;H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/0264(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 黄建勇;费广涛;许少辉;张敏;倪志龙;王彪 申请(专利权)人 上海西源新能源技术有限公司
代理机构 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 魏玉娇
地址 201417上海市奉贤区奉贤化工区苍工路1288号第10栋4、5楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种ZnO量子点掺杂的SiO2下转换减反射膜及其制备方法。所述制备方法包括制备ZnO量子点、制备酸性SiO2溶胶、掺入ZnO量子点、提拉镀膜、高温退火。本发明将ZnO量子点离心、清洗可以去除残余的离子和未反应的杂质,然后在不烘干的情况下掺杂在酸性SiO2溶胶中,可以得到均匀分散的溶胶,通过提拉镀膜制备出下转化减反射膜,该薄膜既具有减反功能,又可以将紫外光转化为可见光,且量子点退火未出现荧光淬灭。本发明的制备方法操作简单且工艺成熟,成本更低,ZnO发射波长可调,可以通过控制ZnO量子点的粒径改变发射峰的位置。有望通过光催化减少表面污渍,应用到光伏系统,农业薄膜领域。