一种晶圆背面覆铜的焊接工艺
基本信息
申请号 | PCT/CN2019/119752 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | WO2021056778A1 | 公开(公告)日 | 2021-04-01 |
申请公布号 | WO2021056778A1 | 申请公布日 | 2021-04-01 |
分类号 | H01L21/60 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | ZHANG, RU;张茹;ZANG, TIANCHENG;臧天程;JIANG, WEIBIN;姜维宾;AN, YONG;安勇;JIN, HAO;金浩 | 申请(专利权)人 | 烟台台芯电子科技有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | BEIJING ZHONGCHUANG BOTEN INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY (GENERAL PARTNERSHIP);北京中创博腾知识产权代理事务所(普通合伙) |
地址 | Building 117, Building 3, 32 Zhujiang Road,,Economic and Technological Development Zone,Yantai, Shandong 264006 CN | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种晶圆背面覆铜的焊接工艺,属于晶圆制造技术领域,该工艺步骤如下:S1:打磨;S2:清洗;S3:退火;S4:第二次打磨和清洗:将退火后的铜片(2)重复步骤S1和S2;S5:印刷:对铜片(2)上表面印刷锡膏;S6:焊接:将晶圆(5)放置于印刷完锡膏的铜片(2)上,晶圆(5)背面与铜片(2)接触,晶圆(5)上方放置上基板(1),铜片(2)下方放置下基板(3),形成焊接机构,将焊接结构放置于真空焊接炉进行焊接,焊接温度为290℃,焊接完成后进行冷却;S7:清洗:将焊接上铜片(2)的晶圆(5)使用溴丙烷浸泡,然后进行超声波清洗,然后再用酒精浸泡进行超声波清洗;S8:检测空洞;用以解决现有技术中芯片温升高、芯片封装时易碎裂的技术问题。 |
